整體計畫概觀
●行政院 110 年 4 月「美中科技戰下臺灣半導體前瞻科研及人才布局」以位於楠梓區之原高雄煉油廠為半導體材料研發核心,並結合台積電、日月光、華邦電、穩懋等半導體廠,建立南部半導體材料 S 廊帶。
●行政院自110 年至 111 年召開「研商科學園區籌設相關事宜-楠梓產業園區籌設作業」會議後,由高雄市政府啟動高雄煉油廠區依《產業創新條例》報編設置楠梓產業園區29.83 公頃(以下簡稱一期園區),完成環境影響評估、都市計畫變更、土壤及地下水污染整治等作業,再由南部科學園區管理局接續辦理高雄煉油廠全區籌設為科學園區,行政院於112 年核定之「南部科學園區擴建高雄第三園區(楠梓園區)籌設計畫」。
●台灣積體電路製造股份有限公司(以下簡稱台積電)在一期園區已於 111 年取得建照啟動第 1 期建廠,第 2 期亦接續啟動,台積電仍擬於楠梓籌設計畫之範圍內勘選土地啟動第 3 期建廠,達成該廠 115 年營運之目標。
台積電勘選之現況土地使用分區為工業區(特種1工業區),然依台積電產業類別之需求,該用地尚無法符合都市計畫法高雄市施行細則附表一之土地使用分區管制項目之規定,有鑑高雄市都市計畫尚無通盤檢討規劃,且考量高雄 22 廠第 3 期建廠期程窘迫,爰此,台積電循細部計畫個案變更程序辦理變更原高雄市都市計畫細部計畫(原中油公司高雄煉油廠土地-配合新建半導體廠房)案,並經高市府於 113 年高市府函認定符合都市計畫法第 27 條第 1 項第 3款規定,辦理本次個案變更。
●本計畫區位為高雄市楠梓區之原高雄煉油廠區與「南部科學園區擴建高雄第三園區(楠梓園區)籌設計畫」之範圍內,北側鄰近後勁聚落、宏毅宿舍,西側鄰近文化景觀「日本第六海軍燃料廠(中油宏南宿舍群等)」、中山大學附屬中學、油廠國小,南側則鄰近半屏山。
●本細部計畫範圍勘選鄰近楠梓產業園區已完成土污整治之適宜區位;並審酌廠房及附屬設施所需基地規模,擇定東側以高煉2廠現有道路為界、南側以高煉廠現有道路為界、西側以產業園區為界(台積電第一、二期廠房興建中) 、北側以原高煉廠內排水設施及隔音牆為界,總面積約 17.22 公頃。
●建廠開發主體為台灣積體電路製造股份有限公司,並負責籌措半導體廠開發所需資金及相關建設。
●計畫範圍內土地由高市府與台灣中油公司租用,後續高市府循上位半導體相關政策及經濟發展需求出租予本計畫。